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清华大学等离子体刻蚀机采购项目公开招标,预算 165 万元

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清华大学等离子体刻蚀机采购项目公开招标,预算 165 万元

发布日期:2022-03-30 16:42    点击次数:82

DoNews3月29日消息(李文朋)今日,清华大学发布等离子体刻蚀机采购项目公开招标的公告,现对等离子体刻蚀机采购项目进行国内公开招标,欲采购 1 套等离子体刻蚀机,预算为 165 万元。

该等离子体刻蚀机将用于刻蚀薄膜铌酸锂晶圆,加工基于薄膜铌酸锂晶圆的电光器件。要求设备在真空系统中的分子泵抽速不小于1300升每秒,干泵抽速不小于100立方米每小时,刻蚀机下电机大小满足8 英寸样品刻蚀需要,样品较小时也能贴片装载,并且吸附作用好。设备能提供自主版权的软件,并适应Windows 操作系统,除薄膜铌酸锂材料外,也能刻蚀相关介质材料。

等离子体刻蚀机是半导体加工中的常见设备,等离子体薄膜刻蚀技术又叫做干法刻蚀技术,该技术分为高密度等离子体刻蚀技术(HDP)和反应离子刻蚀技术(RIE)两种,在性质上都属于物理化学反应,具有各向异性和选择性好的优点,受到半导体刻蚀领域欢迎,目前RIE广泛应用于超大规模集成电路(芯片)制造领域。



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